Diamantno brusno kolo, ki se uporablja v fotovoltaiki

Silicij spada med trde in krhke materiale, trdota po Mohsu je 6,5, lahko naredi polikristalni silicij, monokristalni silicij glede na uporabo.

Monokristalni silicij (MONocrystalline silicon) je razmeroma aktiven nekovinski element. Z v bistvu popolno mrežno strukturo je monokristalni silicij (MONocrystalline silicon) dober polprevodniški material s čistostjo 99,9999 odstotka. Uporablja se predvsem za proizvodnjo polprevodniških naprav in sončnih celic.

Monokristalni silicij se običajno proizvaja tako, da se najprej proizvede polikristalni silicij ali amorfni silicij, nato pa se iz taline prideluje paličast monokristalni silicij z metodo neposrednega vleka ali fuzije v coni suspenzije.

Polikristalni silicij je oblika elementarnega silicija. Ko se staljeni elementarni silicij strdi pod pogoji podhlajevanja, so atomi silicija razporejeni v številna kristalna jedra v obliki diamantne mreže. Na primer, ti kristali zrastejo v zrna z različnimi orientacijami na kristalni površini, ta zrna pa se združijo in kristalizirajo v polikristalni silicij.

Polisilicij je neposredna surovina monokristalnega silicija in je osnovni material elektronskih informacij za umetno inteligenco, avtomatsko krmiljenje, obdelavo informacij, fotoelektrično pretvorbo in druge polprevodniške naprave.

Imenuje se "temeljni kamen zgradbe mikroelektronike".

Postopek obdelave

Postopek obdelave monokristalnega silicija vključuje predvsem: prirezovanje, sferifikacijo, rezanje, brušenje, posnemanje, brušenje, kemično korozijo, poliranje in druge korake.

V nasprotju s tem polisilicij nima korakov obrezovanja in sferifikacije in ga je treba pravokotno rezati in rezati šele po končani pripravi ingota.

V celotnem postopku priprave monokristalnega silicija in polikristalnega silicija od palice do čipa so potrebna diamantna orodja različnih UPORAB, ki sodelujejo pri obdelavi, natančnost obdelave pa je relativno visoka.

Brusilno kolo iz monokristalnega silicija

Enokristalno valjčno brusno kolo, splošna velikost je 1A1 300*25 (35,40) *127*7, v obliki enega čipa in kombinacije.

Je kompozitni brus z večzrnatostjo (D 120/140, 200/230, W40), ki lahko doseže visoko učinkovitost obdelave in kakovost površine hkrati.

Podporna strojna orodja vključujejo Wuxi on-machine WSK003, Wuxi open source WX-7321/2 in tako naprej

Površinsko posnemalno kolo

Posnemanje brusilne površine iz monokristalnega silicija in brusilne površine iz polikristalnega silicija zahteva tudi veliko količino diamantnega brusa. Postopki obdelave so razdeljeni na grobo brušenje in fino brušenje, z velikostjo delcev diamanta 120/140, W40, W28, W20 itd. Glavne dimenzije so 6A2 220*65*130*5*5, 6A 2 200*60*80*5*5, 11A2 100*28(40)*31,75(20)*5*5 itd.

Domača sorodna strojna oprema več, del površinskega posnemanja vse-v-enem stroja je lahko en sam polikristalni lok ali kot, površinsko poliranje.